پوشش دهی چرخشی

شرح خدمت:

پوشش دهی چرخشی روشی رایج برای نشاندن لایه‌های نازک و یکنواخت از مواد (غالبا پلیمرها) بر روی یک زیرلایه مسطح است. در این روش معمولاً از یک ماده پلیمری مانند فتورزیست، PMMA‎ ،PDMS ،SU8 و... برای فرآیند لیتوگرافی سنسورها، عملگرها و ادوات نانو/میکروفلوئیدیک استفاده می‌شود. این فرآیند به ویژه در صنایع میکروالکترونیک و NEMS/MEMS برای پوشش ویفر سیلیکان با فتورزیست در فرایند لیتوگرافی کاربرد دارد. هدف از پوشش ­دهی دورانی و با کیفیت بالا، تولید یک لایه یکنواخت با ضخامت قابل پیش‌بینی و تکرارپذیر است.

مشخصات دستگاه:

بیشینه سرعت دستگاه: 8000 دور بر دقیقه

نگهداری نمونه: مکش خلا

کنترل ها: کنترل دور PID، کنترل شتاب

برنامه پذیری: قابلیت نگهداری 1000 پروفایل