لایه نشانی با دستگاه LPCVD

تجهیزات لایه نشانی
وضعیت تجهیز : در حال خدمت رسانی

شرح خدمت:

دستگاه لایه نشانی بخار شیمیایی فشار پایین جهت لایه نشانی لایه پلی سیلیکان و نیز سیلیکان نایتراید کاربرد دارد. روش کار به این صورت است که در دما و فشار مشخص با حضور گازهای واکنشگر، لایه مورد نظر بر روی بستر سیلیکان لایه نشانی خواهد شد. در این مکانیزم که به لایه نشانی بخار شیمیایی فشار پایین موسوم است با ورود گازهای واکنشگر و افزایش دما درون راکتور، گازها بر روی سطح زیرلایه تجزیه شده و لایه مورد نظر تشکیل خواهد شد.

به عنوان یکی از مهمترین کاربردهای این دستگاه می توان به لایه نشانی پلی سیلیکان برای گیت ترانزیستورهای اثر میدان و ایجاد ممبرین های سیلیکان نایترایدی اشاره کرد. همچنین با استفاده از پروسه های فناوری بالای توسعه یافته توسط محققان مرکز ایجاد نانووایرهای سیلیکانی، نانوتیوب های سیلیکانی و نانوتیوب های Bilayer محقق می شود.

بیشینه دمای کاری دستگاه 850 درجه سانتی گراد، کمینه فشار 0.001 تور و گازهای ورودی سایلن، هیدروژن، آمونیاک، آرگون و نیتروژن هستند. کنترل های بکار رفته در دستگاه شامل کنترل فلو، فشار و دما می باشد. بیشینه ضخامت لایه نشانی دستگاه 1 میکرون می باشد.

 

مشخصات دستگاه:

بیشینه دمای کاری: 850 درجه سانتی گراد

میزان خلا: میلی تور

گازهای مورد استفاده: سایلن، هیدروژن، آمونیاک، آرگون و نیتروژن

سایز ویفر: 2 اینچ

لیست فایل ها

لیست خدمات

  • لایه نشانی Si, Si3N4, Poly-Si

    واحد هر ران هزینه سرویس : ۴,۰۰۰,۰۰۰ ریال